在濾光片的制作過(guò)程中，對(duì)于鍍膜濾光片而言，基底的清洗程度很大一方面決定了鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量的好壞，保障好光學(xué)元件鍍膜前的高潔凈度，是濾光片制作過(guò)程最重要的一步。基底在進(jìn)入鍍膜前需要經(jīng)過(guò)清洗處理達(dá)到去油、去污和脫水，才能有效提高膜層之間的牢固度。

以一般清洗行業(yè)，根據(jù)清洗劑不同一般分為濕式清洗和干式清洗，對(duì)于鍍膜的濾光片行業(yè)而言，一般對(duì)鍍膜前基底的清洗方式主要分為物理清洗與化學(xué)清洗，物理清洗為去除基底表面的附著物，如灰塵、粉塵。化學(xué)清洗即去除基底表面的化學(xué)附著物，即油跡。以下為光學(xué)濾光片的四種清洗方式！

一、擦拭清洗

一般擦拭清洗兼具機(jī)械摩擦與化學(xué)作用除污效果最好，濾光片在轉(zhuǎn)入鍍膜加工前，一般在擦拭清洗前配以超聲波清洗幾分鐘，再用離子水在沖洗效果更好。

基底在經(jīng)過(guò)拋光后，表面可能存在一些拋光后留下的粘附性顆粒物及油污，所以需要在鍍膜前，需要將濾光片基底浸泡在丙酮或其他清洗劑一段時(shí)間，然后用脫脂棉蘸在基底表面進(jìn)行擦拭。如鍺、石英、藍(lán)寶石等基地材料通常用蘸有丙酮的脫脂棉擦拭，再用蘸有清洗劑的脫脂棉擦拭清洗。

二、超聲波清洗

超聲波清洗一般采用超聲空化作用、超聲空化二階效應(yīng)產(chǎn)生的微聲流進(jìn)行洗刷，以及超聲空化在固液界面產(chǎn)生高速微流進(jìn)行沖擊清洗，從而達(dá)到高速、高效、自動(dòng)化清洗。濾光片在進(jìn)行真空鍍膜前對(duì)基底表面潔凈度要求較高，一般需要根據(jù)污染物種類(lèi)選擇不同的超聲波頻率和不同的清洗介質(zhì)，清洗頻率一般多在20-80k Hz范圍，同時(shí)對(duì)媒介進(jìn)行加溫，清洗介質(zhì)可以符合選取張力小，對(duì)超聲波衰減小，對(duì)油脂溶解力大，無(wú)害物質(zhì)等條件的介質(zhì)，或選擇離子水、中性清洗劑、異丙醇、丙酮等。

三、汽相清洗（蒸汽清洗）

蒸汽清洗也叫有機(jī)溶劑蒸汽清洗，通過(guò)有機(jī)溶劑蒸發(fā)-液化冷凝到濾光片基底-溶解污物，從而達(dá)到清洗基底保持高潔凈度的效果，蒸汽清洗裝置的清洗槽經(jīng)過(guò)有機(jī)溶劑141B加熱沸騰后形成大量蒸汽，使得上部空間的有機(jī)溶劑蒸汽在基底冷凝液化，使得基底表面污物溶解，在重力作用下隨著含有污垢的液體從被清洗的基底表面向下流動(dòng)進(jìn)入液相溶劑中。

四、離子束清洗

濾光片在鍍膜前經(jīng)過(guò)清洗后轉(zhuǎn)入真空室過(guò)程時(shí)，在基底裝入鍍膜設(shè)備真空室和蒸鍍前可能存在二次污染，這個(gè)過(guò)程就需要對(duì)基底進(jìn)行最后一道離子束清洗，離子束清洗的原理便是通過(guò)高能離子束轟擊下將吸附或粘附在基片上的污垢進(jìn)行脫離或通過(guò)高熱能氧離子氧化污物分子從而讓污垢在離子碰撞下脫離基片。

鍍膜前的濾光片清洗通常采用擦拭和超聲波換用不同的清潔劑進(jìn)行交叉清洗 ，再用離子水沖洗后輔以汽相清洗以滿足鍍膜前的清潔要求。