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軟膜與硬膜濾光片都有哪些區別與特點!

2025-07-08 派大星

在精密光學系統中,濾光片可以實現精確調控不同波長的光線。實現這一精密功能的核心,在于其表面承載的薄膜——軟膜與硬膜,正是濾光片制造中兩大相輔相成的關鍵技術,它們的協同作用,共同塑造了濾光片的最終性能與形態。

軟膜與硬膜濾光片都有哪些區別與特點! 

(激埃特原創圖)

一、軟膜濾光片:精密的柔性之選

軟膜濾光片是一種通過物理氣相沉積(如熱蒸發),通常未使用離子輔助或輔助能量較低制備的薄膜,膜層結構相對疏松,呈現柱狀或纖維狀微結構,其莫氏硬度一般小于5(指甲可劃傷),在環境耐受性上相對較差;軟膜濾光片其常用材料包括氟化鎂(MgF?)、二氧化硅(SiO?)、硫化鋅(ZnS)等。MgF?以其優異的抗反射性能和低吸收特性成為經典之選;通過在真空室中,通過電阻加熱或電子束轟擊使材料蒸發,蒸汽在基底上冷凝成膜。工藝溫度相對較低。

 軟膜濾光片


軟膜濾光片對成型的影響:

優點: 膜層內應力通常較低,不易導致基底變形;工藝相對簡單,成本較低;易于實現非常厚的膜層沉積;對某些特殊材料(如有機材料)兼容性較好。

缺點: 膜層結構疏松、孔隙多,導致機械強度低(易劃傷、磨損),環境穩定性差(易吸附水汽和污染物,引起波長漂移和散射損失增加);附著力通常不如硬膜;難以精確控制高折射率材料的致密性和光學常數。

加工標準更關注光譜性能(中心波長、帶寬、截止深度、透過率)的精確實現,對膜層硬度和環境耐久性的要求相對較低(或在可控環境下使用)。膜厚均勻性控制是關鍵挑戰之一。


 軟膜濾光片2


二、硬膜濾光片:堅固耐用的基石

硬膜(莫氏硬度>7)主要指通過離子束輔助沉積(IAD)或濺射(磁控濺射、離子束濺射)等高能工藝制備的薄膜。膜層結構致密,接近體材料結構,呈現非晶態或細晶結構,其核心材料廣泛使用二氧化鈦(TiO?)、五氧化二鉭(Ta?O?)、二氧化鉿(HfO?)、氧化鋁(Al?O?)、二氧化硅(SiO?)等,具有防水防潮、耐高溫(>300℃不失效)、抗刮擦(鋼絲絨擦拭無痕)等特點;高折射率材料(如Ta?O?, TiO?)和低折射率材料(SiO?)的組合是構建高性能干涉濾光片的基礎。 

加工工藝與標準:IAD在蒸發同時用離子束轟擊生長中的膜層;濺射則利用等離子體轟擊靶材,使原子濺射到基底成膜。這些過程能量高,粒子動能大。


 硬膜濾光片


對成型的影響:

優點:膜層極其致密、堅硬,機械強度高(耐磨損、擦拭),環境穩定性極佳(不吸潮,光譜性能長期穩定);附著力強;光學常數(n, k)穩定、可精確控制;能實現更陡峭的截止邊緣和更低的散射損耗。

缺點:膜層內應力通常較高(尤其是壓應力),可能導致基底彎曲變形,對薄基底或復雜形狀基底挑戰大;工藝復雜,設備昂貴,成本高;沉積速率相對較慢;實現超厚膜層耗時且應力累積問題更突出。

加工標準:極其嚴苛。除高精度光譜性能外,膜層硬度(常要求鉛筆硬度≥5H或更高)、附著力(百格法測試)、環境耐久性(高溫高濕試驗、鹽霧試驗、擦拭試驗等)是核心考核指標。應力控制(基底變形量)也是關鍵工藝挑戰。

 硬膜濾光片2


三、協同成型:軟硬兼施的藝術

軟膜與硬膜并非相互替代,而是根據性能需求和工藝挑戰,在濾光片的整體結構中協同工作:

1.  應力管理:

在硬膜多層結構中,引入特定設計的軟膜層作為應力緩沖層。例如,在SiO?/Ta?O?多層堆疊中,使用更疏松的SiO?(接近軟膜性質)可以部分抵消Ta?O?的高壓應力,減少基底總變形。對于超窄帶濾光片或要求極高的平直度應用,精確的應力補償設計(軟硬膜組合)是成敗關鍵。

2.  性能優化:

寬帶減反膜(BBAR): 最外層常采用硬質材料(如SiO?或Al?O?) 作為耐磨、防污的“保護帽” ,保護下方實現寬帶減反功能的相對較軟的膜層組合。內部可能包含軟膜材料以實現特定折射率匹配。

特殊光譜需求: 某些材料(如ZnS, Ge)在軟膜工藝下具有獨特的光學特性(如中遠紅外特性),可作為硬膜結構中的功能層嵌入。硬膜工藝則確保整體結構的穩定性和耐久性。

3.  工藝可行性:

對于超厚膜層要求(如某些激光損傷閾值測試用濾光片),純硬膜沉積時間過長且應力累積過大。此時可采用軟膜工藝沉積主體厚層,再在其上覆蓋一層硬質保護層以提高表面耐久性。在復雜曲面基底上鍍膜,硬膜的高應力可能導致膜裂或脫層。采用軟膜或軟硬組合膜系是更可行的方案。

4. 成本與效率:

在滿足性能要求的前提下,非關鍵層或內層可考慮采用成本更低的軟膜工藝。關鍵表面層和保護層則必須使用硬膜。

 濾光片


四、實戰應用特點:各顯神通

軟膜濾光片適用場景:

實驗室環境、科研儀器: 對成本敏感,環境可控,對機械和環境穩定性要求不高,但對特殊光譜性能(如特定材料、超厚層)有需求的光譜儀、分光光度計等。

一次性或低壽命要求器件。

對基底變形極其敏感的場合(如超薄基底、干涉儀平板)。

 

硬膜濾光片主導場景:

嚴苛工業環境: 機器視覺檢測、工業激光加工頭(需耐粉塵、擦拭、冷卻液)。

戶外長期使用: 航空航天遙感、安防監控攝像頭(需耐高低溫、濕熱、鹽霧、紫外輻照)。

醫療診斷設備: 生化分析儀、內窺鏡(需嚴格消毒擦拭,要求高可靠性和穩定性)。

高端消費電子: 智能手機攝像頭模組(需微型化、耐刮擦、耐高溫回流焊)。

高功率激光系統: 激光諧振腔鏡、諧波分離鏡(需超高激光損傷閾值、低吸收損耗、優異熱穩定性)。

國防軍工: 夜視儀、導彈制導頭(極端環境適應性、高可靠性是生命線)。

 

軟膜與硬膜濾光片,如同精密光學樂章中的柔板與強音。軟膜以其低應力、低成本的優勢,為復雜光學設計提供了更多可能;硬膜則憑借其卓越的耐久性和穩定性,成為現代光學系統在嚴苛環境中可靠運行的基石。它們的協同應用——通過精妙的應力工程、性能疊加和工藝互補——是實現高性能、高可靠濾光片的關鍵所在。

 

隨著離子源技術、等離子體技術、先進光學監控技術和材料科學的持續突破,軟硬膜之間的界限也在模糊,混合沉積技術、梯度膜層設計等不斷涌現。未來濾光片制造的核心趨勢,仍將是深度挖掘軟硬膜協同的潛力,在追求極致光學性能的同時,不斷提升其環境魯棒性、加工效率和成本效益,以滿足從微觀量子世界到浩瀚深空探測等日益嚴苛的光學應用需求。這“軟硬兼施”的藝術,將繼續點亮人類認知與改造世界的光明之路。


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