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各反射鏡綜合介紹及選擇指南

2025-08-12 派大星

我們都知道,反射鏡是一種利用反射定律工作的光學元件,其表面一般覆蓋了金屬膜或介質膜,下面我們將為大家介紹我們常見的幾種金屬膜和介質膜為大家做一個簡單的介紹及選擇指南,供大家學習交流!

 各反射鏡綜合介紹及選擇指南

(鍍金外反反射鏡)

金屬膜反射鏡是在高度拋光的基片上真空蒸鍍金屬后,再鍍上一氧化硅或氟化鎂。特殊應用中,由于金屬會引起損失或在特殊環(huán)境下氧化,可由多層介質膜反射鏡代替。通常來說,金屬膜的反射率對入射角度不敏感。

 905反射鏡

(905反射鏡)

介質膜與金屬膜不同,它的反射率同入射角有很大關系。如果角度偏差較大,則反射率可能會有很大的差異。如標稱為 45°入射角的介質膜反射鏡,一般角度范圍為 45士3°,超過這個角度,反射率將會有較大變化。另外,還有一部分介質膜,入射角范圍為:0~45°,但入射角度不同時,反射率曲線會發(fā)生平移,使用時需要注意。

 各材料反射鏡光譜

(各材料反射鏡光譜)

反射鏡分類特征及用途

鍍膜類型

特征

用途

 

金屬膜

鋁膜

經(jīng)濟實惠

可以在寬波長譜區(qū)內使用

可以在所有入射角度下使用

膜有吸收,反射率稍微降低

容易受損(金膜反射膜無保護膜)

簡單的光學系統(tǒng)使

用低輸出激光的光學系統(tǒng)

白光照明系統(tǒng)或成像系統(tǒng)

紅外光學系統(tǒng)(金膜反射鏡)

金膜

銀膜

 

寬帶多層介質膜

 

反射率高可以在寬波長譜區(qū)使用

膜沒有光的吸收膜

較硬不易受損

精密光學系統(tǒng)(微弱光或低損失的光學系統(tǒng))

1W 以內的激光光學系統(tǒng)

使用多波長激光的光學系統(tǒng)

 

 

激光用多層介質膜

 

反射率非常高,損失很少

膜沒有光的吸收,激光損傷閩值很高

不易受損波長

范圍窄,入射角為 45°時使用

 

使用激光的光學系統(tǒng)

強激光光學系統(tǒng)


鋁膜反射鏡分裸鋁膜反射鏡和保護鋁膜反射鏡,保護鋁膜反射鏡是在鋁膜上再鍍一層 MgF?或 SiO?,用于保護鋁膜不被擦傷或氧化。在所有入射角度都具有高反射率,可作為紫外光,可見光,近紅外光的反射鏡使用。常見鋁膜反射率默認為可見光波段的平均反射率。

鍍鋁反射鏡光學結構圖

(鍍鋁反射鏡光學結構圖)

 鍍鋁反射鏡

(鍍鋁反射鏡)

Au金膜反射鏡:鍍有高反射率金膜的反射鏡可用于近紅外,紅外譜區(qū)的寬譜區(qū),為了增強金膜的附著力,鍍有一層極薄的鉻質底膜。硅基板的金膜附著力很強,導熱系數(shù)很高,耐熱性比玻璃基板好很多。由于是金膜,反射率或反射率波長特性不會隨入射角度發(fā)生大的變化。在紅外譜區(qū)具有很高的反射率,沒有反射的光被薄膜全部吸收,不會透過。


 鍍金反射鏡

(鍍金反射鏡)

鍍金反射鏡光學結構圖

(鍍金反射鏡光學結構圖)

注意:在高能量激光條件下,使用硅或者鍺作為金膜反射鏡基底材料增強反射鏡散熱,必要時還需要在使用中增加散熱裝置加強基板散熱。金膜較軟,嚴禁用紙或布擦拭金膜,接觸薄膜時會產(chǎn)生損傷。請使用清潔用壓縮氣罐清潔膜面。技術指標的反射率是用 P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。

 鍍銀反射鏡

(鍍銀反射鏡)

Ag銀膜反射鏡:從可見光到近紅外波段,平均反射率高。在銀膜上鍍了一層保護膜,可防止氧化,延長使用壽命。與鋁膜反射鏡相比,在可見光到近紅外波段反射率更高。與介質膜反射鏡相比,反射率受入射角度的影響很小,可用于各種入射角度。鍍了保護膜,用布等擦拭時也不容易劃傷。

 鍍銀反射鏡光學結構圖

(鍍銀反射鏡光學結構圖)

注意:長期保存時請用除氧劑等,以防止銀膜氧化。使用多個反射鏡多次反射的話,建議選用多層介質膜反射鏡。技術指標的反射率是用P 偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。入射光的偏光狀態(tài)不同,其反射率也不同。

 355-415寬帶介質薄膜反射鏡

(355-415寬帶介質薄膜反射鏡)

寬帶介質膜反射鏡:寬帶介質膜反射鏡在寬波段內反射率較高,適用于調波長激光器和白光。介質膜反射鏡對入射角比較敏感,未說明的情況下,默認的介質膜反射鏡的入射角均為 45°。介質膜幾乎沒有吸收,可以承受連續(xù)的激光照射。

 介質薄膜反射鏡光學結構圖

(介質薄膜反射鏡光學結構圖)

注意:多層電介質膜,因為入射光束的偏光狀態(tài)不同其反射率波長特性會有變化。P偏光與S偏光相比,反射率低,反射譜區(qū)變窄。反射鏡面雖有金屬光澤,但沒有使用金屬材料,請注意不要和金屬膜反射鏡混淆。技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。

 

激光用多層介質膜反射鏡:在高度拋光的熔融石英或硅基板上,通過真空鍍膜技術交替沉積數(shù)十至上百層透明介質膜(常用二氧化鈦/五氧化二鉭等高折射率材料與二氧化硅等低折射率材料組合),每層的光學厚度精確控制為激光波長的四分之一。這種結構利用光的干涉原理,在設計的特定激光波長(如1064nm、532nm等)處實現(xiàn)超過超高反射率,同時具有極低的吸收損耗。其反射率特性(中心波長、帶寬)會隨入射角度和偏振態(tài)變化。

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